自主核心专利壁垒
公司全部核心工艺、硬件结构、检测算法均为自研体系，拥有完整独立知识产权，覆盖电化学成像、低温等离子改性、冷阴极射线源、智能检测工艺四大核心赛道，规避行业通用专利壁垒，具备独家商业化落地权限。
01
硬件结构类专利
聚焦设备整机结构、磁屏蔽系统、真空腔体、场发射光源硬件设计，奠定设备量产硬件基础。
02
工艺方法类专利
覆盖锂电极片检测、缺陷成像、等离子表面改性、电池制程优化新工艺，属行业高价值方法类专利，可直接用于产线落地。
03
算法检测类专利
包含智能成像识别、缺陷建模、数据标定、工艺闭环控制算法，实现设备智能化、数据化、标准化。